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一区二区三区国产告訴(sù)你,塑料模(mó)具的拋光處理

文章來源: 一区二区三区国产模具(jù) 人氣:8372 發表時間:2018-11-19 16:02:43

隨著塑料製品日溢廣泛的應用,如日化用品和飲料包裝容器(qì)等,外觀的需要(yào)往往要求塑(sù)料模(mó)具型腔的(de)表麵(miàn)達到鏡麵拋光的(de)程(chéng)度。而生產光學鏡片、鐳(léi)射唱片等模具對表麵粗糙度要求極(jí)高,因而對拋光性的要(yào)求也極高。

拋光不僅增加工件的美觀,而且能夠改善材料表麵的耐腐蝕性、耐磨性,還可以使模具擁有其它優點,如使塑料(liào)製品易於(yú)脫模,減少生產注(zhù)塑周期等。因而拋光在塑料模具製作過程中是(shì)很(hěn)重要的一道工序(xù)。

目前常用的拋光(guāng)方法有以下幾(jǐ)種(zhǒng):

1.1 機械拋光

機(jī)械拋光是(shì)*切削、材料表麵塑(sù)性變形去掉(diào)被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法(fǎ),一般使用(yòng)油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工(gōng)操作為主(zhǔ),特殊零件如回轉體表麵,可使用轉台等輔助(zhù)工(gōng)具,表麵質量 要求高的可采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表麵(miàn)上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度,是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模(mó)具常采用這種方法。

1.2 化學拋光

化學拋光是讓材料在(zài)化學介質中(zhōng)表麵微(wēi)觀(guān)凸出的部分(fèn)較(jiào)凹部分優先溶(róng)解,從而得到(dào)平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備,可以拋光形狀複雜的工件,可以同時拋光很多工(gōng)件,效率高(gāo)。化(huà)學拋光的核心問題是拋光液的配製(zhì)。化學拋光得到(dào)的表(biǎo)麵粗糙度一般為數10μm。

1.3 電解拋光(guāng)

電解拋光基本(běn)原理與化學拋(pāo)光相同,即*選擇性的溶解材料(liào)表麵微小凸出部分(fèn),使表麵光滑。與化學拋光相比,可以消除陰(yīn)極反應的影響(xiǎng),效果較好。電化學拋光過程分為兩步:

(1)宏(hóng)觀(guān)整平 溶解產物向電解液(yè)中(zhōng)擴散,材料表麵(miàn)幾(jǐ)何粗糙下降,Ra>1μm。

(2)微光(guāng)平整 陽極(jí)極化,表麵光亮度(dù)提高,Ra<1μm。

1.4 超聲波拋光

將工件放入磨(mó)料懸浮液中並一起置於超聲波場中,依(yī)*超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工(gōng)宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝製作和安裝較困難(nán)。超(chāo)聲波加工可以與化學或電化學方法結合(hé)。在溶液腐蝕、電解的基礎上,再施(shī)加超聲(shēng)波振動攪拌溶液,使工件表麵溶解產物(wù)脫離,表(biǎo)麵附近的腐蝕或電解(jiě)質均勻;超聲波在液體中的空(kōng)化作用還能夠抑製腐蝕過程,利(lì)於表(biǎo)麵光亮化

1.5 流體拋(pāo)光

流體拋光是依*高速流(liú)動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力(lì)研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質高速往複流過工件表(biǎo)麵。介質主要(yào)采用在較低壓力(lì)下流(liú)過性好的特殊(shū)化合物(聚合物狀物質)並摻上磨料製成,磨料可采用碳(tàn)化矽粉末。

1.6 磁研磨(mó)拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在(zài)磁(cí)場作用下形成磨料刷,對工件磨削(xuē)加工。這種方(fāng)法加工效率高(gāo),質量好,加工條件容易控製,工作條件好。采用合適的磨料,表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。

在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中(zhōng)所要求的表(biǎo)麵拋光有很大的不同,嚴格(gé)來說,模具的拋光應該稱為鏡麵加工。它不僅對拋光本身有很高的要求並且對(duì)表麵平整度、光(guāng)滑度(dù)以及幾何精確度也有很(hěn)高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得(dé)光亮的表麵即可。

鏡麵加工的標準(zhǔn)分為四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由於電解(jiě)拋光、流體拋光等方法很難精確控製零件的幾何精(jīng)確度,而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表麵質量又達不到(dào)要求,所以精(jīng)密模(mó)具的鏡麵加工還是以機械拋光為(wéi)主。

機械拋光基本程序

要想獲得(dé)高質量的拋光效果,最重要的是要具備有高質(zhì)量的(de)油石、砂紙和鑽石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光(guāng)程(chéng)序(xù)的選擇取決於前期加工(gōng)後的表麵狀況,如機械加工、電火花加工,磨加工等等。機械拋光的一般過程如下:

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工藝後(hòu)的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表麵拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利(lì)用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火(huǒ)花層。然後是手工油石研(yán)磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一(yī)般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許(xǔ)多模具製造商為了節約時間而選擇從#400開始。

2、半精拋

半精拋主要使用砂紙和(hé)煤油。砂紙的號數依次為:#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙隻(zhī)用適於(yú)淬硬的模具鋼(52HRC以(yǐ)上),而不適用於預硬鋼,因為這樣可能會導致預硬鋼件表麵燒傷。

3、精拋

精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉或(huò)研磨膏進行研磨的話,則通常的研磨順序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的鑽石研(yán)磨膏(gāo)和拋光布輪可(kě)用來去除#1200和#1500號砂(shā)紙留下的發狀(zhuàng)磨痕(hén)。接著(zhe)用粘氈和鑽石研磨膏進(jìn)行拋(pāo)光,順序為1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。

精度要求在1μm以上(包括1μm)的拋光工藝在模具加工(gōng)車間中一(yī)個清潔的拋光室內即可進行。若進行更加精(jīng)密的(de)拋光(guāng)則必需一個絕對潔淨的空間。灰塵、煙霧,頭皮(pí)屑和(hé)口水沫(mò)都有可能報廢數個小時工作後得到的高精密拋光表麵。

機械拋光中(zhōng)要注意的問題

用砂紙拋光應注意以下幾點:

1、用(yòng)砂(shā)紙拋光需要利用軟的木(mù)棒(bàng)或竹棒。在(zài)拋光圓麵或球麵時,使(shǐ)用(yòng)軟木棒(bàng)可更好的配合圓麵和球麵(miàn)的(de)弧度(dù)。而較硬的木條像櫻桃木,則更適用於平(píng)整表麵(miàn)的拋光。修整木條的末端使其(qí)能與鋼件表麵形狀保持吻合,這樣可以避免(miǎn)木條(或竹條)的銳角接觸鋼件表麵而造成較深的劃痕。

2、當換用不同型號(hào)的砂紙時,拋光(guāng)方向應變換45°~ 90°,這樣前一種型號砂紙拋光後留(liú)下的條紋陰影(yǐng)即可分辨(biàn)出來。在換不(bú)同型號砂(shā)紙之前,必須(xū)用100%純棉花沾取酒精之類的清潔液對拋光(guāng)表麵進行仔細的擦(cā)拭,因(yīn)為(wéi)一顆(kē)很(hěn)小的沙礫留(liú)在表麵都會毀壞接下去的整個拋光工作。從砂紙拋光換成鑽石研磨膏拋光時,這個清潔過(guò)程同樣重要。在拋光繼續進行之前,所有顆(kē)粒和煤油都必須被完全清潔幹(gàn)淨。

3、為了避免擦傷和燒傷工件表麵,在用#1200和#1500砂紙進行拋光時必(bì)須特別小心。因而(ér)有必(bì)要加載一個輕載荷以及采用(yòng)兩步拋光法對表麵進行拋光。用每一種型號(hào)的砂紙進(jìn)行拋光(guāng)時都應沿兩個不同方向進行兩次拋光,兩個方向(xiàng)之間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注意以下幾點:

1、這種拋光(guāng)必須盡量在較(jiào)輕(qīng)的壓力下進行特別是拋光預硬鋼件和用細研磨膏拋光時。在用#8000研磨膏拋光時,常用載荷為100~200g/cm2,但要保持此載荷的(de)精(jīng)準度很難做到。

為了更容易做(zuò)到這一點,可以在木條上做一個薄且窄的手柄(bǐng),比如加(jiā)一銅片;或者在竹條上切去一部分而使其更加柔軟(ruǎn)。這樣可以幫助控製拋光壓力,以確保模具表麵壓(yā)力不會過(guò)高。

2、當使用鑽石研(yán)磨拋光時,不僅是工作表(biǎo)麵(miàn)要求潔淨,工作者的雙手也必須仔細清潔。

3、每次拋光時間不應過長,時間越短,效果(guǒ)越好。如果拋光(guāng)過程進行得過長(zhǎng)將會造成“橘皮(pí)”和“點蝕”。

4、為獲得高質量的拋光效果,容易發熱的拋光方法和工具都應避免。比如:拋光輪拋光,拋光輪產生的熱量會很容易造成“橘皮”。

5、當拋光過程停止時,保證工件表麵潔淨和仔細去(qù)除所(suǒ)有研磨劑和潤滑(huá)劑非常重要,隨(suí)後應在表麵噴淋一層模具防鏽塗層。

由於機械拋光主要還是*人工完成,所以拋光(guāng)技(jì)術目前還是影響拋光質量的主要原因。除此之外,還與模具材料、拋光前的表麵狀況、熱處理工藝等有關。優質的鋼材是獲(huò)得良好拋光質量的前提條件,如果鋼材表麵硬度不均或特性上有差(chà)異(yì),往往(wǎng)會產生拋光困難。鋼材中的各種(zhǒng)夾雜物和氣孔都不利於拋(pāo)光。

不同硬度對拋(pāo)光工藝(yì)的影響

硬度(dù)增高使研磨的困難增(zēng)大,但拋光後的粗糙度減小。由於硬(yìng)度的增高,要達到較低的粗糙度所(suǒ)需的拋光時間相應增長。同時硬度增高,拋光過度的可能性相應減少。

工件表麵狀況對(duì)拋光工藝的影響

鋼(gāng)材在切削機(jī)械加工的破碎過程中,表層會因熱量、內(nèi)應力或其他(tā)因素而(ér)損壞,切削參數不(bú)當會影響拋光效(xiào)果。電火(huǒ)花加工後的表麵(miàn)比普通(tōng)機械加工或熱處(chù)理後(hòu)的表麵更難研磨,因此電火花加工結束前應采用精規(guī)準電火花修整,否則表麵會(huì)形成硬化薄層。

如果電火花精修(xiū)規準(zhǔn)選(xuǎn)擇(zé)不當,熱影響層(céng)的深度最大可(kě)達0.4mm。硬化薄層的硬度比基體硬度高,必須去除。因此最好增加一道粗磨加工,徹底清除損壞表麵(miàn)層,構成一片平均粗糙的金屬麵,為拋(pāo)光加工提供一個良好基礎。

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