塑（sù）料（liào）成型工藝中描述的拋光與其他行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光

本身有很高的（de）要求（qiú），而（ér）且對表麵平整（zhěng）度、的平滑度和（hé）幾何精度也有很高的標準。表麵拋光通常僅需要光澤表麵。鏡像處理（lǐ）標準

分（fèn）為四個級別（bié）。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控製各部分的幾何精度，由於（yú）化學（xué）拋光所（suǒ）述超聲（shēng）波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是（shì）必需的，精密（mì）模具主要是基於機械（xiè）拋光。 。

　　1、半精細拋（pāo）光主（zhǔ）要使用砂紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密拋光主要製作金（jīn）剛石膏。通常的磨削（xuē），以（yǐ）除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的（de）痕跡，拋光布為9um的金剛（gāng）石研磨膏你可以使用（yòng）方向盤（pán）。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛（gāng）石漿料進行拋光（guāng）。要求（qiú）精度為1微米或更（gèng）大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋光（guāng）模具。灰塵、煙霧，頭（tóu）皮屑和唾液可能（néng）具有高（gāo）精度拋光表麵，可在（zài）工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的基本程序，高質量的拋光效果，最重要的是要有高質量的拋光工具和砂紙和（hé）研磨膏等配件。最重要（yào）的是一個複雜的工作環境，需要一（yī）個潔淨室。拋光程（chéng）序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機（jī）械拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電火（huǒ）花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波（bō）粉碎（suì）機旋轉。常見的方法是使（shǐ）用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作（zuò）為潤滑（huá）劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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